Etablissement Université de Biskra - Mohamed Khider Affiliation Département de Génie Mécanique Auteur Sakri, Kamel Directeur de thèse HASSEINE

Business Listing - April 01, 2020

Etablissement Université de Biskra - Mohamed Khider Affiliation Département de Génie Mécanique Auteur Sakri, Kamel Directeur de thèse HASSEINE

Mémoires de Fin d’Etudes
Etablissement Université de Biskra - Mohamed Khider Affiliation Département de Génie Mécanique Auteur Sakri, Kamel Directeur de thèse HASSEINE Abdelmalek (Maitre de conférence) Filière Génie Mécanique Diplôme Doctorat Titre Modélisation numérique de l’écoulement d’un fluide dans un réacteur horizontale. Application au dépôt chimique en phase gazeuse Mots clés Modélisation d’un réacteur horizontale, étude numérique, dépôt chimique, réaction chimique, précurseurs et gaz porteur Résumé De nombreux matériaux sont élaborés sous forme de revêtement par réaction chimique à partir d’une phase gazeuse sur des pièces portées à haute température. Les phénomènes de transfert de quantité de mouvement, d’énergie et de matière associés aux réactions chimiques aussi bien dans la phase gazeuse que sur la surface du solide à revêtir ont une très grande importance pour le matériau final. Ces phénomènes difficilement mesurables expérimentalement c’est pour cette raison, un des objectifs de notre recherche, consiste à concevoir, et modéliser le cas d’un écoulement du fluide dans un réacteur horizontale. Un autre objectif, essentiel et complémentaire vise à produire des couches métallique de faible épaisseur, de quelques micros sur des pièces à revêtir par le procédé de dépôt chimique en phase gazeuse. La plupart de temps, on suppose que les propriétés de la couche mince obtenue sont complètement déterminées par le choix des précurseurs, du gaz porteur, de leur débit respectif et de la pression du réacteur. Finalement, l’objectif d’étude de notre projet, est la résolution des équations de mouvement, l’équation d’énergie, équation des espèces chimique et déterminer les vitesses de croissance de dépôt chimique ainsi que l’uniformité de dépôt sur des substrats. Réponse CS Le sujet est validé Statut Validé

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